אין אינדוסטריעס ווי מיקראָעלעקטראָניק, אָפּטאָעלעקטראָניק און ביאָפאַרמאַסוטיקאַלז,העל אַנילינג(BA), איינמאַכן אָדער פּאַסיווירן (AP),עלעקטראָליטישע פּאָלירינג (EP)און וואַקוום צווייטיקע באַהאַנדלונג ווערן בכלל גענוצט פֿאַר הויך-ריינקייט און ריינע רער-ליניע סיסטעמען וואָס טראַנסמיטירן סענסיטיווע אָדער קעראָוסיוו מעדיע. אויפגעלייזטע (VIM+VAR) פּראָדוקטן.
א. עלעקטראָ-פּאָלירט (עלעקטראָ-פּאָלירט) ווערט באַצייכנט ווי EP. דורך עלעקטראָכעמישער פּאָלירונג קען מען שטאַרק פֿאַרבעסערן די ייבערפֿלאַך מאָרפֿאָלאָגיע און סטרוקטור, און מען קען רעדוצירן די ווירקלעכקייט פֿון דער ייבערפֿלאַך ביז אַ געוויסן גראַד. די ייבערפֿלאַך איז אַ פֿאַרמאַכטע, דיקע קראָום אָקסייד פֿילם, די ענערגיע איז נאָענט צום נאָרמאַלן לעוועל פֿון דער צומיש, און די מאָס מעדיע ווערט פֿאַרקלענערט – געוויינטלעך פּאַסיק פֿאַר עלעקטראָנישע קוואַליטעט.הויך-ריינקייט גאזן.
ב. העל-אנילינג (העל-אנילינג) ווערט באצייכנט אלס BA. הויך-טעמפּעראַטור היץ באַהאַנדלונג אין הידראָגענאַציע אָדער וואַקוום צושטאַנד, אויף איין זייט, עלימינירט אינערלעכע דרוק, און אויף דער אַנדערער זייט, שאַפט אַ פּאַסיוואַציע פילם אויף דער ייבערפלאַך פון דער רער צו פֿאַרבעסערן די מאָרפאָלאָגישע סטרוקטור און רעדוצירן דעם ענערגיע לעוועל, אָבער פאַרגרעסערט נישט די ייבערפלאַך ראַפנאַס – געוויינטלעך פּאַסיק פֿאַר GN2, CDA, און נישט-פּראָצעס ינערט גאַזן.
C. איינגעמאכט און פּאַסיווירט/כעמיש פּאָלירט (איינגעמאַכט און פּאַסיווירט/כעמיש פּאָלירט) ווערן באַצייכנט ווי AP און CP. איינמאכן אדער פּאַסיווירן די רער וועט נישט פֿאַרגרעסערן די ייבערפלאַך ראַפֿקייט, אָבער עס קען אַראָפּנעמען די פֿאַרבליבענע פּאַרטיקלען אויף דער ייבערפלאַך און רעדוצירן דעם ענערגיע לעוועל, אָבער עס וועט נישט רעדוצירן די צאָל צווישן-שיכטן – געוויינטלעך געניצט אין אינדוסטריעלע קוואַליטעט רערן.
ד. וואַקוום צווייטיקע דיסאַלושאַן ריין רער Vim (וואַקוום אינדוקציע מעלטינג) + Var (וואַקוום אַרק רימעלטינג), ריפערד צו ווי V+V, איז אַ פּראָדוקט פון Sumitomo Metal Company. עס איז געווען פּראַסעסט ווידער אונטער אַרק באדינגונגען אין אַ וואַקוום שטאַט, וואָס יפעקטיוולי ימפּרוווז קעראָוזשאַן קעגנשטעל און ייבערפלאַך ראַפנאַס. גראַד - יוזשאַוואַלי פּאַסיק פֿאַר העכסט קעראָוסיוו הויך-ריינקייַט עלעקטראָניש גראַד גאַזן, אַזאַ ווי: BCL3, WF6, CL2, HBr, עטק. 
פּאָסט צייט: 8טן אַפּריל 2024