אין ינדאַסטריז אַזאַ ווי מיקראָעלעקטראָניקס, אָפּטאָעלעקטראָניקס און ביאָפאַרמאַסעוטיקאַלס,העל אַנילינג(באַ), פּיקלינג אָדער פּאַסיוויישאַן (אַפּ),עלעקטראָליטיק פּאַלישינג (EP)און וואַקוום צווייטיק באַהאַנדלונג זענען בכלל געניצט פֿאַר הויך-ריינקייַט און ריין רערנ - ליניע סיסטעמען וואָס יבערשיקן שפּירעוודיק אָדער קעראָוסיוו מידיאַ. צעלאָזן (VIM + VAR) פּראָדוקטן.
א. עלעקטראָ-פּאָלישט (עלעקטראָ-פּאָלישט) איז ריפערד צו ווי עפּ. דורך עלעקטראָטשעמיקאַל פּאַלישינג, די ייבערפלאַך מאָרפאָלאָגי און סטרוקטור קענען זיין זייער ימפּרוווד, און די פאַקטיש ייבערפלאַך געגנט קענען זיין רידוסט צו אַ זיכער מאָס. די ייבערפלאַך איז אַ פארמאכט, דיק קראָומיאַם אַקסייד פילם, די ענערגיע איז נאָענט צו דער נאָרמאַל מדרגה פון די צומיש, און די סומע פון מעדיע איז רידוסט - יוזשאַוואַלי פּאַסיק פֿאַר עלעקטראָניש מיינונגהויך-ריינקייַט גאַסאַז.
B. Bright Annealing (Bright Annealing) איז ריפערד צו ווי BA. הויך-טעמפּעראַטור היץ באַהאַנדלונג אין כיידראַדזשאַניישאַן אָדער וואַקוום שטאַט, אויף די איין האַנט, ילימאַנייץ ינערלעך דרוק, און אויף די אנדערע האַנט, פארמען אַ פּאַסיוויישאַן פילם אויף די ייבערפלאַך פון די רער צו פֿאַרבעסערן די מאָרפאַלאַדזשיקאַל סטרוקטור און רעדוצירן די ענערגיע מדרגה, אָבער טוט נישט. פאַרגרעסערן די ייבערפלאַך ראַפנאַס - יוזשאַוואַלי פּאַסיק פֿאַר GN2, CDA און ניט-פּראָסעס ינערט גאַסאַז.
C. פּיקאַלד & פּאַסיוואַטעד / כעמישער פּאַלישט (פּיקקלעד & פּאַסיוואַטעד / כעמישער פּאַלישט) זענען ריפערד צו ווי אַפּ און קפּ. פּיקלינג אָדער פּאַסיוויישאַן פון די רער וועט נישט פאַרגרעסערן די ראַפנאַס פון די ייבערפלאַך, אָבער עס קענען באַזייַטיקן די רוען פּאַרטיקאַלז אויף די ייבערפלאַך און רעדוצירן די ענערגיע מדרגה, אָבער דאָס וועט נישט רעדוצירן די נומער פון ינטערלייערז - יוזשאַוואַלי געניצט אין ינדאַסטריאַל פּיפּס.
די וואַקוום צווייטיק דיסאַלושאַן ריין רער ווים (וואַקוום ינדאַקשאַן מעלטינג) + וואַר (וואַקוום אַרקרעמעלטינג), ריפערד צו ווי V + V, איז אַ פּראָדוקט פון סומיטאָמאָ מעטאַל פֿירמע. עס איז פּראַסעסט ווידער אונטער קרייַזבויגן טנאָים אין אַ וואַקוום שטאַט, וואָס יפעקטיוולי ימפּרוווז קעראָוזשאַן קעגנשטעל און ייבערפלאַך ראַפנאַס. גראַד - יוזשאַוואַלי פּאַסיק פֿאַר העכסט קעראָוסיוו הויך-ריינקייַט עלעקטראָניש מיינונג גאַסאַז, אַזאַ ווי: BCL3, WF6, CL2, HBr, עטק. 
פּאָסטן צייט: אפריל 08-2024